高真空方法 ：

真空镀vacuum plating 真空镀主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型，它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较产品的功能性镀层，例如作为内部屏蔽层使用。

(1)真空蒸发镀 在高真空容器中，将金属材料加热蒸发，并镀着在制件表面上，形成与基体牢固结合的金属或非金属覆盖层的过程称为真空蒸发镀，简称真空镀或蒸发镀，如真空镀铝，真空镀镀金等。

(2)溅射镀 在高真空容器中，在低气压下使离子在强电场作用下轰击膜料，使其表面原子逸出并沉积在制件表面上形成薄膜的过程称为溅射镀，如溅射硅、溅射银等。

(3)离子镀 在高真空容器中，在低气压下利用蒸发源蒸出的粒子，经过辉光放电区部分电离，通过扩散和电场作用，沉积于制件表面形成与基本牢固结合镀覆层的过程称为离子镀，如镀氮化钛等。

(4)化学气相镀 在低压下，利用气态物质在固态表面上进行化学反应生成与基体结合良好的固体沉积层的过程称为化学气相镀（有时也有常压下进行）。如气相沉积氧化硅、氮化硅等。

(5)离子注入 在高压电下将不同离子注入工件表面以改变表面性质的过程称为离子注入，如注硼等。

电泳及静电喷涂

1、电泳 　　

工件作为一个电极放入导电的水溶性或水乳化的涂料中，与涂料中另一电极构成解电路。在电场作用下，涂料溶液中已离解成带电的树脂离子，阳离子向阴极移动，阴离子向阳极移动。这些带电荷的树脂离子，连同被吸附的颜料粒子一起电泳到工件表面，形成涂层，这一过程称为电泳。

2、静电喷涂

在直流高电压电场作用，雾化的带负电的油漆粒子定向飞往接正电的工件上，从而获得漆膜的过程，称为静喷涂。

　金属表面处理主要体现在两个方面。一方面是表面保护，它使用各种保护方法来防止金属腐蚀。常用的表面保护方法包括表面涂层和表面转化涂层技术。另一种是金属表面改性，也称为表面优化，是借助离子束、激光、等离子体等新技术手段，改变材料表面和表面附近的成分、结构和性能，从而获得传统冶金和表面处理技术无法获得的新的分层材料。

　　这种类型处理的主要目的就是使传统材料具有更好的性能。现代先进的表面改性技术主要有物相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、等离子体化学气相沉积(PCVD)、离子注入和离子束沉积。

　　表面淬火不是金属表面处理，而是金属表面的一种热处理过程。这种类型的表面处理以增强金属的强化方法或耐腐蚀性等，因为该表面处理方法很多，其中有些涉及一些物理变化，有些涉及化学变化，如电镀，它们的表面处理有不同的用途。

　　总的来说，金属表面处理带来的效果还是不错的，如有需要，可以直接联系我们!